イチからわかる、半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望(2025年冬版)

  • 開催日2025年12月15日
  • 形態ライブ配信 or アーカイブ配信
  • 半導体

半導体製造装置の基礎から最新トレンド、2025年冬の展望を解説するセミナー。半導体市場の動向、2ナノ半導体の量産、製造装置・材料へのニーズ、業界構造の変化、新規参入の可能性について、AIや環境問題なども踏まえて多角的に考察します。

  • 2ナノ
  • AI
  • トレンド
  • 半導体
  • 市場動向
  • 製造装置

<3時間で半導体産業の動向を把握する>半導体市場の動向と経済安全保障について~半導体産業の今後の見通し、日本のあるべき姿~

  • 開催日2025年12月19日
  • 形態ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

2024年の半導体市場動向を振り返り、デバイス別・アプリケーション別に今後の見通しを予測。米中摩擦や各国の政策にも触れ、主要半導体メーカーの戦略を紹介。半導体産業の将来展望と、日本のあるべき姿を考察する3時間のセミナー。

  • 今後の見通し
  • 半導体アプリケーション
  • 半導体メーカー
  • 半導体市場
  • 市場動向
  • 経済安全保障

ポリイミドの基礎とポリイミド系材料の低誘電率化・低誘電正接化

  • 開催日2025年12月18日
  • 形態ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

航空宇宙、半導体分野で活用されるポリイミドの基礎と応用技術に関するセミナー。機能・分子設計、感光性ポリイミド、低誘電損失設計に焦点を当て、低誘電率化・低誘電正接化技術を解説。アーカイブ配信で、専門家が詳細な情報を提供する。

  • ポリイミド
  • 低誘電正接
  • 低誘電率
  • 分子設計
  • 半導体材料
  • 感光性ポリイミド

クリーンルームにおける静電気対策

  • 開催日2026年1月27日
  • 形態ライブ配信 or 会場:東京都
  • 半導体

クリーンルームにおける静電気対策をテーマとした1日セミナー。静電気の基礎から、イオナイザーの選定、接地対策まで、初心者でも上級者レベルの知識を習得できます。静電気学会著作賞受賞書籍のプレゼント特典付き。

  • イオナイザー
  • クリーンルーム
  • 帯電
  • 除電
  • 静電気
  • 静電気対策

【半導体後工程技術の深化、進化、真価】BSPDN構造・ハイブリッド接合に向けたプロセス、材料、集積技術の革新動向

  • 開催日2026年2月10日
  • 形態ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

BSPDN構造やハイブリッド接合など、半導体後工程技術の革新動向を解説するセミナー。3D集積技術の詳細、プロセス技術、材料に焦点を当て、IITC 2025での発表内容も踏まえ、最先端の研究動向を紹介。半導体プロセスを専門とする井上史大氏が講...

  • 3D集積
  • BSPDN
  • ハイブリッド接合
  • プロセス
  • 半導体
  • 後工程

半導体・電子デバイス製造における真空および薄膜形成・加工技術

  • 開催日2026年2月6日
  • 形態ライブ配信
  • 半導体

半導体・電子デバイス製造における真空技術と薄膜形成・加工技術を1日で習得できるセミナー。真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜、ドライエッチングの基礎から応用、装置設計、プロセス制御、今後の展望までを解説。電子デバイス製造の国内...

  • ALD
  • CVD
  • スパッタリング
  • ドライエッチング
  • プロセスプラズマ技術
  • プロセス技術
  • 真空技術
  • 蒸着
  • 薄膜デバイス
  • 薄膜形成
  • 薄膜技術
  • 製造技術
  • 電子デバイス

超臨界二酸化炭素を用いた金属被覆技術の最新動向

お申し込み締切まで後4日

  • 開催日2025年12月12日
  • 形態ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

「超臨界流体技術」と「めっき技術」を融合した「超臨界ナノプレーティング法(SNP)」を紹介。無欠陥金属被覆やポリマーへの高密着性を実現し、半導体配線、MEMS、ウェアラブルデバイスへの応用を解説。SNPの原理、無電解めっきへの応用、銅埋め込...

  • ウェアラブルデバイス
  • ナノプレーティング
  • めっき技術
  • 半導体
  • 超臨界流体
  • 金属被覆

EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

  • 開催日2025年12月18日
  • 形態ライブ配信
  • 半導体

EUVリソグラフィー技術の基礎から最新動向、課題解決策、今後の展望を解説。7nm node量産適用後の2nm node以降のロジックデバイス向け技術課題、EUV光源、光学系、レジスト、マスク技術などを詳説。日本の半導体技術の今後についても言...

  • EUVリソグラフィー
  • マスク
  • レジスト
  • 光源
  • 半導体
  • 技術

セミナーは終了しました

レアメタル市場の動向とトランプ政権の影響―半導体・電池・自動車・航空機産業への影響と今後の戦略―

  • 開催日2025年11月18日
  • 形態ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体
  • 電池

トランプ政権の通商政策と中国の報復輸出規制がレアメタル市場に与える影響を分析。半導体、電池、自動車、航空機産業への影響、最新の需給動向、日本企業の調達・投資・リサイクル戦略、代替技術、経済安全保障の視点からの資源リスクと成長機会、今後の展望...

  • ガリウム
  • サプライチェーン
  • チタン
  • トランプ政権
  • トランプ関税
  • ネオジム磁石
  • レアメタル
  • レアメタル市場
  • 中国
  • 中国輸出規制
  • 半導体規制
  • 投資戦略
  • 経済安全保障
  • 輸出規制
  • 電池材料

流れの可視化画像で基礎から学ぶ半導体洗浄技術~洗浄プロセスの基礎となる現象理解から困った時の視点と対策まで~

  • 開催日2025年12月17日
  • 形態ライブ配信 or ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

半導体洗浄技術の基礎を、可視化画像を通して学ぶセミナー。洗浄プロセスの現象理解から、具体的な洗浄装置の水流・気泡の可視化、困ったときの視点と対策まで解説。半導体洗浄初心者向けに、基礎からわかりやすく説明し、洗浄技術に対する理解を深める。

  • バッチ式
  • 半導体洗浄
  • 可視化
  • 境界層
  • 枚葉式
  • 気泡
  • 水流
  • 洗浄プロセス
  • 洗浄技術
  • 流れの可視化
  • 超音波

フォトレジスト材料における研究開発事例紹介~問題点および今後の分子設計方法について~

  • 開催日2025年12月16日
  • 形態ライブ配信
  • 半導体

フォトレジスト材料に関する研究開発事例を紹介するセミナー。基本的な合成方法から最新の合成例、EUV用レジスト材料の研究開発例、問題点、今後の分子設計方法を解説。大学卒業程度の化学知識が前提。レジスト材料の今後の動向、問題点、分子設計方法、開...

  • EUV
  • EUV用レジスト
  • ネガ型レジスト材料
  • フォトレジスト材料
  • ポジ型
  • ポジ型・ネガ型レジスト
  • メタルレジスト
  • 分子レジスト
  • 分子設計
  • 化学増幅型レジスト
  • 化学増幅型レジストシステムと非化学増幅型レジストシステム
  • 材料開発

電子・電気機器における熱設計の基礎と放熱設計のポイント

  • 開催日2025年12月16日
  • 形態ライブ配信 or ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

電子・電気機器の熱設計に関する基礎と実践を学ぶセミナー。熱抵抗、熱伝導、熱伝達、輻射などの基礎知識を解説し、ヒートシンク、ファン、グラファイトシート、TIM、ヒートパイプ、ベーパーチャンバーなどの放熱デバイスの使用方法を実例を交えて紹介しま...

  • ヒートシンク
  • 実例
  • 放熱デバイス
  • 熱伝達
  • 熱抵抗
  • 熱設計

<高品質な塗布層を形成するために>基材への表面処理・塗布乾燥技術の基礎からトラブル対策、応用事例まで

お申し込み締切まで後4日

  • 開催日2025年12月15日
  • 形態ライブ配信 or ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

高品質な塗布層形成のための技術セミナー。基材、表面処理、塗布方法、乾燥工程を解説し、トラブル対策や応用事例を紹介。均一で欠陥のない塗布層形成のヒントを提供し、機能性付与の事例も学ぶ。

  • 乾燥
  • 基材
  • 塗布
  • 機能性
  • 欠陥
  • 表面処理

お申し込み受付は終了しました

半導体製造の化学機械研磨(CMP)技術の基礎からCMP後洗浄の特徴と最新動向まで

  • 開催日2025年12月9日
  • 形態ライブ配信
  • 半導体

半導体製造におけるCMP技術に焦点を当て、基礎からCMP後洗浄の特徴、最新動向までを解説するセミナー。CMPの原理、装置構成、洗浄工程、課題、解決策をわかりやすく説明。特にCMP後洗浄の重要性を強調し、若手技術者や学生向けに、今後のCMP工...

  • CMP
  • CMP後洗浄
  • 半導体製造
  • 洗浄
  • 腐食
  • 課題

EUVレジスト・EUVメタルレジストの基礎・最新開発動向から現状課題と展望まで

お申し込み締切まで後3日

  • 開催日2025年12月12日
  • 形態ライブ配信 or ライブ配信+アーカイブ配信
  • 半導体

EUVレジスト・EUVリソグラフィの基礎から最新の開発動向、課題、市場展望を解説するセミナー。最新ロードマップ、EUVメタルドライレジストプロセス、アンダーレイヤー、光分解性クエンチャーなど、幅広いトピックスを網羅。予備知識不要で、研究者か...

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  • メタルレジスト
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  • 技術動向