半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術

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セミナー概要

セミナーのテーマ

  • 半導体ウェット洗浄の基礎と技術トレンド
  • 乾燥技術の基礎と技術トレンド
  • 先端半導体における洗浄課題と最新技術

こんな方におすすめです

  • 半導体製造プロセスに関わる技術者
  • 品質・歩留まり向上に関心のある方
  • 最新の洗浄・乾燥技術に興味のある方
セミナータイトル半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術
開催日時 【ライブ配信】

2025年11月21日(金)13:00~16:30
お申し込み期限:2025年11月21日(金)12:30まで

開催場所/配信の補足・注意事項

■ライブ配信
受講方法・接続確認はこちら(申込み前に必ずご確認ください)

・本セミナーは、主催会社様HPのS&T会員マイページより視聴いただけます。
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。

受講料49,500円

定価:本体45,000円+税4,500円
E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円

受講者2名以上の場合:【2名同時申込で1名無料】対象セミナー
2名で49,500円(2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額の24,750円)
▼1名分無料適用条件
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※請求書(クレジットカード決済の場合は領収書)は、代表者にS&T会員マイページにてPDF発行いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
受講者1名の場合:テレワーク応援キャンペーン【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込み: 受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円 )
定価:本体36,000円+税3,600円
E-Mail案内登録価格:本体34,400円+税3,440円
※他の割引は併用できません。
主催サイエンス&テクノロジー
備考■配布資料
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
オンライン配信受講:開催2日前を目安に、主催会社様HPのS&T会員マイページよりダウンロード可となります。

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半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術

■半導体ウェット洗浄の必要性、洗浄の方法/原理、技術トレンド■
■乾燥の技術トレンド、次世代半導体の洗浄課題、先端洗浄・乾燥技術■

★ 品質/歩留まりを向上するための洗浄技術へ!
★ 半導体ウェット洗浄装置・薬液・洗浄原理から、先端半導体に要求される洗浄技術、最新の洗浄技術まで!

講師

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
R&D戦略統轄部 アライアンス推進部 先端プロセス開発課 塚原 隆太 氏
[経歴]
2019年~(株)SCREENセミコンダクターソリューションズ入社
[活動内容]
枚葉式洗浄装置を使ったデモ評価や乾燥技術の開発
[WebSite]
https://www.screen.co.jp/spe/

セミナー趣旨、ポイント

 半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
 まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。
 本セミナーでは、「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

得られる知識

・半導体製造におけるウェット洗浄の役割を基礎から理解できる。
・半導体ウェット洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる。
・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる。

プログラム

1.半導体ウェット洗浄の必要性
 1.1 半導体製造フローと洗浄の位置づけ
 1.2 洗浄装置の役割
 1.3 洗浄の除去対象

2.半導体ウェット洗浄の方法/原理
 2.1 洗浄装置の種類
 2.2 異物の除去
 2.3 異物の付着抑制

3.洗浄の技術トレンド
 3.1 洗浄と半導体の歴史
 3.2 従来の洗浄技術

4.乾燥の技術トレンド
 4.1 乾燥と半導体の歴史
 4.2 従来の乾燥技術

5.次世代半導体の洗浄課題
 5.1 半導体デバイスのトレンド
 5.2 洗浄の技術的課題
 5.3 洗浄装置に求められる機能

6.先端洗浄・乾燥技術
 6.1 最新の洗浄技術
 6.2 最新の乾燥技術
 6.3 シミュレーション技術

7.まとめ

  □質疑応答□

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