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フォトレジスト技術の基礎から、最新のEUVレジスト材料、PFAS規制の影響までを解説するセミナー。材料、プロセス、装置の評価法やトラブル対策、環境に優しいレジスト除去技術も紹介。若手研究者やマーケティング担当者、新規分野探索担当者向けの、知...
お申し込み締切まで後6時間
リソグラフィ技術とレジスト材料の基礎、微細化・高解像度化への応用、今後の展望、半導体産業の位置付けを解説するセミナー。技術開発、不良防止、トラブル対策への応用、日本の半導体産業の現状と課題、効率的なイノベーション創出についても言及。
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リソグラフィとレジスト技術の基礎から、EUVレジストの詳細、トラブル対策、最新動向までを解説するセミナー。デバイスの高集積化を支える微細加工技術の現状と将来展望を、第一線の専門家がわかりやすく説明します。
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半導体リソグラフィの全体像を解説するセミナー。半導体製造におけるリソグラフィの位置づけ、露光装置の進化、EUV露光装置の特徴、電子ビーム露光装置、レジスト材料の原理を説明。専門外の方にもわかりやすく、基礎から解説し、専門家向けには計算方法も...
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セミナー概要 セミナーのテーマ リソグラフィの基礎と最新技術 レジスト材料の高性能化と評価技術 レジスト製造・使用現場でのトラブル対応 こんな方におすすめです…