乾燥技術

半導体洗浄の基礎と次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術

• 開催日2026年2月27日
• 形態ライブ配信

• 半導体

半導体製造における洗浄技術の基礎から、次世代半導体における洗浄課題と最新技術までを3時間で解説するセミナーです。洗浄装置、薬液、乾燥技術のトレンドやシミュレーションについても学びます。

• ウェット洗浄
• シミュレーション
• 乾燥技術
• 半導体洗浄
• 洗浄装置
• 異物除去

セミナーは終了しました

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術

• 開催日2025年11月21日
• 形態ライブ配信

• 半導体

半導体製造におけるウェット洗浄技術の基礎から最新技術までを解説するセミナー。洗浄の必要性、方法、原理、技術トレンド、乾燥技術、次世代半導体の洗浄課題、先端洗浄・乾燥技術について言及。品質と歩留まり向上を目指し、装置、薬液、洗浄原理を理解し、...

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