半導体露光技術の発展、およびEUV露光装置の現状と将来展望

セミナー趣旨、ポイント

半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ、パターン微細化に伴う半導体露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。 次に、投影露光装置の構成、主要性能と要素性能の関係について述べ、露光装置についての定性的理解を深めてもらう。更に、解像度に対する投影光学系、照明光学系のパラメータと露光波長の寄与について数式を用いて詳しく説明し、専門の方には計算の仕方を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。そして、多層膜反射光学系を含むEUV露光装置とその関連技術の特徴、最新状況、今後の展望について説明する。最後に、露光装置によって形成される光学像強度分布からレジスト像への転写原理、レジスト材料の原理について述べる。

こんな方におすすめ

・半導体業界でのリソグラフィ技術の最新動向を知りたい方
・半導体製造プロセスに携わる技術者、若手技術者、新人エンジニア
・EUV露光技術の詳細を理解したい技術者や研究者
・半導体産業の未来と技術的課題に関心がある方 半導体製造プロセスのうち、リソグラフィ関連全般を原理的な視点から理解したい方（新人、若手技術者、マネジメント）

得られる知識

・半導体製造プロセスにおけるリソグラフィの位置づけ、半導体露光装置の歴史を理解できる。
・半導体露光装置の構成と性能 特に解像度の決定要因と部分的コヒーレンス理論を理解することができる。
・EUV露光装置の特徴を理解することができる。
・レジスト材料の原理を理解することができる