二次元強誘電体

セミナー概要 セミナーのテーマ 強誘電体の基礎特性と歴史 エピタキシャル成長と薄膜剥離技術 二次元強誘電体の作製と応用 こんな方におすすめです 強誘電体材料に興味のある研究者 デバイス応用に関心のある技術者 薄膜材料の研究開発に携わる方 強誘電材料の特性・基礎と強誘電デバイス・二次元強誘電体の作製および応用展望 ■強誘電体のエピタキシャル成長、エピタキシャル薄膜の剥離技術、二次元強誘電体への展望■ ★ 今注目の強誘電材料技術、最新動向！★ 特に強誘電体超薄膜を剥離して作製した二次元強誘電体を中心に解説します。 講師 大阪大学 大学院工学研究科 教授 菅 大介 氏＜経歴＞2006年－2007年 京都大学化学研究所 博士研究員2007年－2009年 日本学術振興会 海外特別研究員2009年－2010年 Research Associate, University of Maryland2010年－2014年 京都大学化学研究所 助教2014年－2025年 京都大学化学研究所 准教授2025年-現在 大阪大学大学院工学研究科 教授＜専門＞薄膜材料科学＜受賞＞・2012年 第31回応用物理学会講演奨励賞・2017年 科学技術分野の文部科学大臣表彰・若手科学者賞・2017年 平成28年度粉体粉末冶金協会賞研究進歩賞＜WebSite＞https://www-chem.eng.osaka-u.ac.jp/~kan-lab/ セミナー趣旨、ポイント 強誘電体は、現代の高度情報化社会を下支えする重要な材料です。本講演では、強誘電体の基礎からデバイス応用に至るまでを、最新の研究動向、特に強誘電体超薄膜を剥離して作製した二次元強誘電体に焦点を当てながら、解説します。 得られる知識 強誘電体に関する知識、実験技術、最新の研究動向 プログラム １．強誘電体材料の歴史・進展２．強誘電体の基礎特性３．酸化ハフニウム基強誘電体の基礎特性４．強誘電体のエピタキシャル成長技術５．強誘電エピタキシャル薄膜の基礎特性６．強誘電体のサイズ効果・クランピング効果・ストレイン効果７．酸化物超薄膜の（強）誘電特性８．エピタキシャル薄膜の剥離技術９．エピタキシャル薄膜の剥離により作製したメンブレン結晶の特性１０．酸化物メンブレン結晶の最新研究動向１１．強誘電ゲートトランジスタ・強誘電デバイス１２．二次元強誘電体の応用展望１３．二次元強誘電体の最新の研究成果・今後の展望 □質疑応答□