成膜技術 – セミナーゲート（化学）

セミナー概要 セミナーのテーマ 半導体デバイス向けプラズマCVD装置の基本構造と用途 高品質薄膜成膜技術とプロセス性能の向上 プラズマCVD装置の課題と量産化対応 こんな方におすすめです 半導体デバイスの成膜技術に関心がある方 プラズマCVD装置の開発・評価に携わる技術者 高品質薄膜成膜や量産化の課題解決を目指す方 ＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応 ■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術／課題と対策を解説■ ★ アーカイブ受講のみもOKです。★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします！ 講師 SPPテクノロジーズ(株)製造部 次長 兼 生産管理グループ長 兼 マーケティング部 マネジャー 金尾 寛人 氏【経歴・研究内容・専門・活動】1989年3月 名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業．1989年4月 住友金属工業(株)に入社．Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)2000年4月 住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)装置全般の技術営業、マーケティング（現在）【WebSite】https://www.spp-technologies.co.jp/ セミナー趣旨、ポイント 当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。 得られる知識 プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。 プログラム １．プラズマCVD装置の基本構造 1.1 プラズマCVD装置の構成 1.2 反応チャンバーの基本構成２．プラズマCVD装置の用途 2.1 適用アプリケーション３．プラズマCVD装置のプロセス性能 3.1 SiH4系SiO2膜 3.2 SiH4系SiN膜 3.3 SiH4系SiON膜 3.4 SiH4系a-Si膜 3.5 SiH4系SiC膜 3.6 TEOS系SiO2膜 3.7 液体ソース系SiN膜４．開発用装置と量産用装置 4.1 プラットフォーム５．プラズマCVD装置の課題と対策 5.1 高レート化 5.2 プロセスの再現性 5.3 低パーティクル 5.4 チャンバークリーニング 5.5 ウェーハ温度の低温化 5.6 ウェーハ大口径化 など □質疑応答□

ALDプロセスの基礎と原料の分子設計・開発および成膜の最新技術

＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応