ALE – セミナーゲート（化学）

セミナー概要 セミナーのテーマ ドライエッチング技術の基礎 原子層エッチング（ALE）技術と最新動向 半導体プロセス分野におけるDX こんな方におすすめです 半導体プロセス技術に興味のある方 ドライエッチング技術について学びたい方 プラズマプロセス技術の基礎知識を習得したい方 ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング（ALE）の最新技術動向 ■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■■半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX）■ ★ アーカイブ受講のみもOKです。★ 最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説します。 講師 大阪大学エマージングサイエンスデザインR³センター 特任教授・名誉教授 浜口 智志 氏【経歴】1982年東京大学理学部物理学科卒業1987年同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了1988年ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了1988年-1990年テキサス大学物理学科核融合研究所（IFS) 研究員1990年-1998年IBM ワトソン研究所主任研究員1998年-2004年京都大学エネルギー科学研究科・助教授2004年-2025年 大阪大学工学研究科・教授2025年-現在 大阪大学エマージングサイエンスデザインR³センター特任教授（常勤）・名誉教授【学位】理学博士、Ph.D. in mathematics【専門】プラズマ物理学、プラズマプロセス工学、核融合科学【学会活動】国際真空科学技術応用国際連合（IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、Journal of Plasma Medicine 編集委員長、ライプニッツ・プラズマ科学技術研究所（ドイツ）科学諮問評議会委員、プラズマ医療国際学会（IPMS)元会長、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、等。【受賞】2016:プラズマ賞・米国真空学会（AVS), 2012:米国物理学会（APS)フェロー、2011:AVSフェロー、2019ドイツ研究振興協会メルカトールフェロー、2022：日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学賞 等【WebSite】http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/ セミナー趣旨、ポイント 本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング（ALE）技術について、表面反応機構から最新技術動向までを詳しく紹介する。関連項目として、プラズマＣＶＤと原子層堆積（ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション（DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。 得られる知識 ・プラズマプロセスの基礎知識・ドライエッチングの基礎知識・原子層エッチング（ALE)の基礎知識と最新技術動向 プログラム １．背景２．プラズマ科学の基礎３．代表的なプラズマプロセス装置４．反応性イオンエッチング（RIE）の基礎 4.1 プラズマ表面相互作用 4.2 表面帯電効果 4.3 シリコン系材料エッチング反応機構 4.4 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構 4.5 高アスペクト比（HAR)エッチング概要５．プラズマCVD概要：原子層堆積（ALD)の基礎として６．ALDプロセスの概要：原子層エッチング（ALE）の逆過程として 6.1 熱ALD 6.2 プラズマ支援(PA-)ALD７．ALEプロセスの概要と最新技術動向 7.1 PA-ALE 7.2 熱ALE：リガンド交換 7.3 熱ALE：金属錯体形成８．半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX） 8.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design) 8.2 仮想計測(VM)とプロセス装置制御 8.3 マテリアルズ・インフォマティクス 8.4 プロセス開発における機械学習（ML)・AIの活用９．まとめ □質疑応答□