セミナー概要
セミナーのテーマ
- 半導体リソグラフィの基礎と位置づけ
- EUV露光装置と電子ビーム露光装置
- レジスト材料の原理
こんな方におすすめです
- リソグラフィを原理から理解したい新人技術者
- リソグラフィ関連の知識を深めたい若手技術者
- リソグラフィ分野のマネジメント層
セミナータイトル | 半導体リソグラフィの全体像~EUV露光装置・光源・レジスト材料の原理と展望~ |
開催日時 | 【ライブ配信】 2025年9月10日(水)13:00~16:30 【アーカイブ配信】 |
開催場所/配信の補足・注意事項 | 【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】 |
受講料 | 49,500円(税込、資料付) ■会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から |
主催 | R&D支援センター |
受付中
半導体リソグラフィの全体像~EUV露光装置・光源・レジスト材料の原理と展望~
講師
東京科学大学 総合研究院 ゼロカーボンエネルギー研究所 研究員 博士(工学)/
九州大学 プラズマナノ界面工学センター アドバイザー
鈴木 一明 氏
【専門】
精密工学、微細加工技術、非破壊検査技術
【略歴】
学生時代(1984年3月まで):プラズマ物理(学部)、X線天文学(大学院)を専攻
民間企業時代(1984年4月~2019年2月):(株)ニコン
KrFステッパ、KrFスキャン、電子線、EUV等の新コンセプトの半導体投影露光装置や、産業用X線CT装置の開発をリーディング。
2011年~2014年 Nikon Metrology のChief Strategy Officerとして英国赴任。
アカデミア時代(2019年3月~現在):
2019年3月~2025年3月 東京工業大学(現・東京科学大学) 物質・情報卓越教育院
2025年4月~ 東京科学大学 総合研究院 ゼロカーボンエネルギー研究所 研究員
2021年~2023年 成城大学 社会イノベーション学部 非常勤講師
2023年1月~ 九州大学 プラズマナノ界面工学センター アドバイザー(兼任)
“Microlithography -Science and Technology -” (CRC Press)(第2版2007、第3版2020)の編者。
セミナー趣旨、ポイント
半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ、半導体パターン微細化に伴うリソグラフィ用露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。次に、投影露光装置の構成、主要性能と要素性能の関係について述べ、露光装置についての定性的理解を深めてもらう。更に、解像度に対する投影光学系、照明光学系のパラメータと露光波長の寄与ついて数式を用いて詳しく解説し、専門の方には計算の仕方を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。そして、光源、多層膜ミラー、反射光学系を含むEUV露光装置の特徴について説明する。更に、原版となるマスク上に半導体パターンを描画するために用いられる電子ビーム露光装置について説明する。最後に、露光装置によって形成される光強度分布からレジスト像への転写原理、レジスト材料の原理について述べる。
受講対象者、必要な予備知識
特に予備知識は必要ありません。基礎から説明いたしますが、四則演算、三角関数、微積分、平均値と標準偏差、等の基礎知識は必要です。
こんな方におすすめ
半導体製造プロセスのうち、リソグラフィ関連全般を原理的な視点から理解したい方(新人、若手技術者、マネジメント)。
得られる知識
・半導体製造プロセスにおけるリソグラフィの位置づけ、半導体露光装置の歴史を理解できる。
・半導体露光装置の構成と性能、特に解像度の決定要因と部分的コヒーレンス理論を理解することができる。
・EUV露光装置の特徴を理解することができる。
・電子ビーム露光装置の特徴を理解することができる。
・レジスト材料の原理を理解することができる。
プログラム
1. 半導体高集積化のトレンド
2. 半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ
3. 露光装置概説
3-1. 半導体露光装置の露光方式の進化
3-2. 半導体露光装置の性能と要素機能、露光技術の発展
(部分的コヒーレンス理論、解像度向上策、重ね合わせ精度、スループットを含む)
4. EUV露光装置
4-1. EUV露光装置の特徴
(光源、多層膜反射光学系、真空ステージ、EUVマスクを含む)
4-2. EUV露光装置の高NA化と将来展望
4-3. Cost of Ownership
5. 電子ビーム露光装置
6. レジスト材料の原理
受付中