アニール – セミナーゲート（化学）

セミナー概要 セミナーのテーマ 半導体材料とデバイスの基礎 CMOS LSI製造プロセス 個別プロセス技術（リソグラフィー、エッチングなど） こんな方におすすめです 半導体関連企業の若手～中堅の研究者・開発者・技術者 半導体製造にかかわる方 事業企画担当、営業担当の方 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス ～CMOS製造プロセスを中心に～ ☆オンライン会議アプリZoomを使ったWEBセミナーです。 講師 サクセス インターナショナル(株) 技術顧問 工学博士 鈴木 俊治 氏【専門】 半導体デバイス、MOS LSIプロセス技術（イオン注入技術、アニール技術）【略歴】 1968年 ソニー中央研究所 1989年 ソニー厚木Tec 超LSI研究所 2000年 ソニーホームエレクトロニクスカンパニー 2003年 住友イートンノバ（現住友重機会イオンテクノロジー(株)） 2009年 琉球大学 工学部 電気電子工学科 博士研究員 2010年 千葉大学 工学部 ナノサイエンス学科 (非常勤講師) 2011年 半導体産業人協会 教育委員会委員 2013年 サクセスインターナショナル(株) 技術顧問【その他の活動・著書など】 「半導体集積回路シンポジューム」プログラム委員 雑誌「電気化学」(電気化学会発行) 編集委員 セミナー趣旨、ポイント 半導体材料の構造、種類、性質などとバイポーラトランジスタ(Tr)、MOS Trといった代表的半導体デバイスの基本を説明した後、CMOS LSI作製のプロセス技術の流れを説明する。その後、半導体デバイス作製に使用される、リソグラフィー、エッチング、イオン注入などの不純物導入技術、CVDなどの成膜技術、平坦化に用いられるCMP技術、洗浄技術等などの個別のプロセス技術をCMOS LSIの作成プロセスに沿って説明を進めてゆく。更に、Cu配線等、多層配線の必要性と課題、その形成方法について説明する。最後に、最先端で使用されているFinFETなど構造についても触れる。 こんな方におすすめ 半導体の材料・デバイス・装置など半導体関連企業の、主に若手~中堅の研究者・開発者・技術者、製造にかかわる方、事業企画担当、営業担当の方。 得られる知識 ・半導体の性質、構造と種類。・バイポーラ―Tr、MOS Trの構造とその基本的動作原理・CMOS IC作製の流れ・半導体デバイス作製に用いられる個別プロセス技術 - リソグラフィー - エッチング - 不純物導入 - 成膜 - 平坦化（CMP） - 洗浄技術 - 多層配線形成方法 プログラム 1. 半導体とは ・金属、絶縁体との違い ・半導体の導電性 ・キャリアの移動度 ・半導体材料、半導体の種類 ・半導体の結晶構造2. 半導体デバイスの基礎 ・p/n接合 ・バイポーラ―トランジスタ - バイポーラ―トランジスタの構造と基本動作原理 ・MOSトランジスタ - MOSトランジスタの構造、動作原理とMOS Trの種類3. CMOS LSI作製のプロセスフロー ・180nm程度の世代のPlanar CMOS LSI作製の流れ4. 個別プロセス ・リソグラフィー ・エッチング ・不純物導入 - 不純物拡散、イオン注入 ・成膜技術 - 熱酸化、CVD、原子層堆積(ALD)、Sputter、メッキ、SOG ・平坦化技術(CMP) - 平坦化の必要性、平坦化の方法(CMP) ・清浄化技術 - バッチ式洗浄、枚様式洗浄5. 多層配線技術 ・高性能配線 ・配線の信頼性 ・Cu多層配線6．最先端MOS Trについて ・FinFET、FDSOI Tr、Nanosheet Tr、CFETなど＜質疑応答＞