洗浄技術 – セミナーゲート（化学）

セミナー概要 セミナーのテーマ 半導体洗浄の基礎知識（装置、薬液、原理） 乾燥技術とその重要性 次世代半導体における洗浄課題と最新技術 こんな方におすすめです 半導体洗浄関連業務に従事する若手技術者（1～3年） 半導体洗浄技術に興味のある方 半導体製造プロセスに携わる方 半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド 洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術まで幅広く解説！ ～「洗浄」と「乾燥」の２つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介～ 講師 （株）SCREEN セミコンダクターソリューションズR&amp;D戦略統轄部 アライアンス推進部 先端プロセス開発課塚原 隆太氏 セミナー趣旨、ポイント 半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾燥させる必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にもフォーカスを当て解説します。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。 本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。 受講対象者、必要な予備知識 特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。 こんな方におすすめ ・半導体洗浄関連の業務にたずさわって1~3年の若手技術者や新人～中堅の方・半導体の洗浄技術に興味のある方 得られる知識 ・半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる・半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる プログラム 1.半導体ウェット洗浄の必要性 1-1 半導体製造フローと洗浄の位置付け 1-2 洗浄装置の役割 1-3 洗浄の除去対象2.半導体ウェット洗浄の方法・原理 2-1 洗浄装置の種類 2-2 異物の除去 2-3 異物の付着抑制3.洗浄の技術トレンド 3-1 洗浄と半導体の歴史 3-2 従来の洗浄技術4.乾燥の技術トレンド 4-1 乾燥と半導体の歴史 4-2 従来の乾燥技術5.次世代半導体の洗浄課題 5-1 半導体デバイスのトレンド 5-2 洗浄の技術的課題 5-3 洗浄装置に求められる機能6.先端技術・感動技術 6-1 最新の洗浄技術 6-2 最新の乾燥技術 6-3 シミュレーション技術7.まとめ