高解像度化

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来

• 開催日2025年11月17日
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• 化学・材料

リソグラフィ技術とレジスト材料の基礎、微細化・高解像度化への応用、今後の展望、半導体産業の位置付けを解説するセミナー。技術開発、不良防止、トラブル対策への応用、日本の半導体産業の現状と課題、効率的なイノベーション創出についても言及。